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我公司自主研发的显微膜厚测量仪进入主流半导体Fab并通过验证, 可测量20nm-...

作者: 来源: 日期:2017/5/8 人气:1688
我公司自主研发的显微膜厚测量仪进入主流半导体Fab并通过验证, 可测量20nm-100um膜厚,光斑 大小20um
下一个:可钢化磁控溅射Low-E玻璃的研制

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