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光学薄膜测厚仪的核心技术介绍和原理说明

作者: 来源: 日期:2019/7/12 人气:2991
大家想了解光学薄膜测厚仪技术及原理吗?以下内容是光学膜厚测量仪厂家--昆山胜泽光电科技对光学薄膜测厚仪的核心技术介绍和原理说明。
光学薄膜测厚仪的特点是非接触, 非破坏方式测量,无需样品的前处理,软件支持Windows操作系统等。光学薄膜测厚仪是使用可视光测量晶圆、玻璃等基材上形成的氧化膜,氮化膜,光致抗蚀剂等非金属薄膜厚度的仪器。
测量原理如下:在测量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可视光,这时光的一部分在膜的表面反射,另一部分透进薄膜,然后在膜与底层 (晶圆或玻璃)之间的界面反射。这时薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。光学薄膜测厚仪就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。

仪器的光源使用钨丝灯,波长范围是400 nm~800 nm。从ST2000到ST7000使用这种原理,测量面积的直径大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作为K-MAC (株) 最主要的产品之一,有影像处理的功能,是超越一般薄膜厚度测量仪器的新概念上的厚度测量仪器。测量面积的zui小直径为0.2μm,远超过一般厚度测量仪器的测量jixian (4μm)。顺次测量数十个点才能得到的厚度地图也可一次测量得到,使速度和精确度都大大提高。

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