行业动态

我公司自主研发的显微膜厚测量仪进入主流半导体Fab并通过验证, 可测量20nm-...

作者: 来源: 日期:2017/5/8 人气:2885
我公司自主研发的显微膜厚测量仪进入主流半导体Fab并通过验证, 可测量20nm-100um膜厚,光斑 大小20um
下一个:可钢化磁控溅射Low-E玻璃的研制

联系人:顾先生
电    话:0512-57716856
手机号:18012663983
邮   箱:515105979@qq.com
网   址:www.apristech.cn
地   址:昆山开发区章基路135号加速器14栋104


电话咨询
产品展示
联系我们
首页